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解決方案

半導(dǎo)體分析

Semiconductor Testing

行業(yè)概述

半導(dǎo)體制造涉及一系列不同工藝步驟，在半導(dǎo)體的制造工藝中，器件的不良率很大程度由污染造成。在超純水、電子化學(xué)品、電子特氣、硅片等各個(gè)環(huán)節(jié)，均需進(jìn)行嚴(yán)格的環(huán)境污染管控及污染物檢測(cè)。如果您需要測(cè)量半導(dǎo)體制造中所用化學(xué)品中的金屬雜質(zhì)，或者測(cè)試硅晶片或最終元件中的金屬污染物，萊伯泰科為您提供靈敏、穩(wěn)定、強(qiáng)健的分析方法滿(mǎn)足您的需求。萊伯泰科為半導(dǎo)體行業(yè)中各種樣品的痕量元素分析提供解決方案，這些樣品包括單晶硅片、太陽(yáng)能光伏硅片、高純制程化學(xué)品、超純水、有機(jī)試劑和光阻材料等。萊伯泰科的研發(fā)和技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)提供了專(zhuān)門(mén)用于滿(mǎn)足半導(dǎo)體行業(yè)需求的單四極桿和串聯(lián)四極桿 ICP-MS 系統(tǒng)。

行業(yè)解決方案

多晶硅基體金屬雜質(zhì)檢測(cè)

電子級(jí)多晶硅金屬雜質(zhì)含量是評(píng)價(jià)其產(chǎn)品質(zhì)量的重要指標(biāo)之一，其雜質(zhì)含量的高低直接影響下游晶圓制造產(chǎn)品質(zhì)量，所以對(duì)其金屬雜質(zhì)含量的控制至關(guān)重要。萊伯泰科提供可靠、易用的 ICP-MS產(chǎn)品，擁有良好的精度，可實(shí)現(xiàn)多晶硅金屬元素雜質(zhì)準(zhǔn)確分析，確保制造商始終能夠生產(chǎn)出高品質(zhì)的產(chǎn)品。

硅片表面金屬雜質(zhì)檢測(cè)

硅片是半導(dǎo)體制造業(yè)的基礎(chǔ)材料，硅片表面極其少量的金屬雜質(zhì)元素污染都可能造成器件的功能喪失或者可靠性變差，隨著半導(dǎo)體制程的不斷提高，對(duì)金屬離子污染物的控制也越來(lái)越嚴(yán)格。萊伯泰科提供了融合穩(wěn)定、可靠、高靈敏度的ICP-MS產(chǎn)品，幫助半導(dǎo)體制造商在生產(chǎn)過(guò)程中執(zhí)行檢測(cè)并減少污染，即使在高基質(zhì)環(huán)境下，也可對(duì)晶圓制造的每個(gè)階段中的金屬雜質(zhì)類(lèi)型、來(lái)源和含量進(jìn)行準(zhǔn)確的檢測(cè)。此外，萊伯泰科的經(jīng)驗(yàn)豐富的工程師們將作為硅片生產(chǎn)企業(yè)及Fab工廠(chǎng)的堅(jiān)實(shí)后盾，提供多方位技術(shù)支持。

濕電子化學(xué)品金屬雜質(zhì)檢測(cè)

在半導(dǎo)體工業(yè)中，嚴(yán)格控制半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中所使用的濕電子化學(xué)品中的金屬雜質(zhì)，對(duì)于實(shí)現(xiàn)所需的產(chǎn)品性能和產(chǎn)量至關(guān)重要。隨著半導(dǎo)體器件性能的持續(xù)提高，對(duì)雜質(zhì)的控制要求也更加嚴(yán)格。萊伯泰科研發(fā)生產(chǎn)的穩(wěn)定、可靠的ICP-MS產(chǎn)品，可為濕電子化學(xué)品金屬雜質(zhì)含量檢測(cè)提供有效手段。

金屬污染物在線(xiàn)監(jiān)測(cè)

萊伯泰科的 ICP-MS 產(chǎn)品可與多家供應(yīng)商的自動(dòng)化在線(xiàn)半導(dǎo)體制程化學(xué)品監(jiān)測(cè)系統(tǒng)集成。在化學(xué)品供應(yīng)中心、分配過(guò)程以及使用過(guò)程中，對(duì)制程化學(xué)品中的金屬雜質(zhì)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。實(shí)時(shí)在線(xiàn)監(jiān)測(cè)能夠在工藝的各階段迅速檢測(cè)到金屬污染，從而完成快速評(píng)估正等待從貯罐卸載的化學(xué)品的質(zhì)量的檢測(cè)和生產(chǎn)需求。

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